北大团队破光刻技术难题，助力芯片制程革新！《自然通讯》论文发布
⚠️ 风险提示：本站内容来源于互联网，不代表平台观点，请独立判断和决策，市场有风险，据此操作风险自担。
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然通讯》
风险提示：本平台信息来源于大数据及网络，包括AI及网友发布，内容不完全属实。仅供学习研究，不构成投资依据，请投资者注意风险，据此交易盈亏自负。
相关快报
-
据早间新闻报道：特朗普宣告延长停火的时间，然而伊朗方面却表明不会参与伊朗与美国之间的第二轮谈判。 ...
-
伊朗称同意暂停军事战斗 但战争尚未结束。当地时间4月22日凌晨，就特朗普关于延长停火期限的声明，伊朗国家电视台作出回应。其表示，在这场冲突中，伊朗已然成为战场赢家。掌控霍尔木兹海峡是伊朗在这场战争里收获的极其重要的优势。伊朗同意暂停军事战斗，不过战争并未终结。 ...
-
4月21日，美国总统特朗普表示，美伊将达成重大协议，美方处于有力谈判地位，与伊方交涉非常成功，并指“封锁行动是成功的”，且“没有那么多时间了”。（新华社） ...
